XRR(X射线反射)

X-射线反射率X-射线反射率 

镜面XRRX-射线反射率),为XRD的相关技术,是一种广泛应用在分析薄膜和多层结构特性的工具。X-射线在非常小的绕射角内散射,可以得到低至几十Ǻ内的薄膜电子密度分布特性。利用仿真的反射率模式,可以对晶体或者非晶形薄膜以及多层的厚度、界面粗糙度和层密度进行高精确度的测定。不需要提前知道与薄膜光学属性相关的知识或者假设条件,和光学椭圆仪有所不同。

 

 

 

主要应用

  •  确定薄膜和多层的厚度、界面粗糙度和密度

应用范围

  • 高精度的薄膜厚度和密度测定
  • 测定薄膜或界面的粗糙度
  • 测定晶圆薄膜的均匀性
  • 测定低介电系数薄膜的孔密度和孔径

 

分析规格

  • 侦测讯号:反射X-射线
  • 侦测元素: 不会具体侦测元素,而是测定层的电子密度。再结合层成分的信息,使层的厚度和密度得到精确的测定。
  • 侦测限制条件: 最小层厚30-100Ǻ
  • 深度分辨率: ~1%的测定厚度
  • 影像/mapping:是
  • 横向分辨率/侦测尺寸:~1cm

优点

  • 全芯片分析(最大300mm)和不规则大尺寸样品
  • 全晶圆映射
  • 导体和绝缘体的分析
  • 薄膜的光学属性不要求进行精确的厚度测定
  • 最小或者没有样品制备要求
  • 所有分析的环境条件

 

技术限制

  • 需要预期样品基本结构的某些信息(层的顺序以及他们的概略成分),以提供准确的密度结果
  • 最大薄膜厚度~300nm

 

产业应用

  • 化合物半导体
  • 资料存储
  • 国防
  • 显示器
  • 电子领域
  • 光子领域
  • 半导体
  • 光电太阳能
  • 电信