XPS/ESCA(X射线光电子能谱/化学分析电子光谱)

X-射线电光子分光光谱/电子能谱术化学分析XPSX-射线光电子光谱),也被称为ESCA(化学分析电子光谱)主要是被用来确定定量的原子组成和化学,是一种使用取样容积从表面延伸到约50–70Å深度的表面分析技术。另外,通过量化基质元素的深度函数,XPS分析可以用溅射深度来表示薄膜的特性。XPS是唯一一种提供侦测元素化学状态消息的元素分析技术,例如硫酸盐和硫化物之间元素硫形式的区别。工作原理是用单色X-射线照射样品,造成光电子的发射,得到元素的特性能量。

EAG会在各种不同的应用中利用这种技术帮助各个行业内的客户,包括研发、制程开发/改善。

 

 

X-射线电光子分光光谱/电子能谱术化学分析

案例包括:

  • 鉴别污渍和变色
  • 特性化清洁过程
  • 分析粉末和碎屑的成分
  • 确定污染物来源
  • 研究制程前后的聚合物官能性,来辨别和定量样品表面的变化
  • 测定硬盘上润滑油的厚度
  • 得到基质组成中薄膜堆栈的深度分析(包括导体和非导体)
  • 评估样品之间氧化层厚度的差异

这些针对产品化学成分的见解可以让您更为快速地制造产品和改善流程,使得您减少处理时间,并节省成本。

有了EAG的帮助,您还可以利用最好的设施、仪器和科学家来得到XPS的分析结果。我们为多个行业处理过许多不同的材料,这让我们积累了各种丰富的经验。此外,我们的个人服务会确保解决您的所有问题。

应用范围

  • 有机和无机材料、污渍或残留物的表面分析
  • 确定表面组成和化学状态的信息
  • 薄膜组成的深度分析
  • 硅氧氮化物(Silicon oxynitride)的厚度和剂量测定
  • 薄膜氧化物厚度测定(SiO2, Al2O3等等)

分析规格

  • 侦测讯号:近表面原子的光电子
  • 侦测元素:Li-U化学键结信息
  • 侦测限制条件:0.01 - 1 at% ~monolayer
  • 深度分辨率: 20-200 Å(深度分析);10-100 Å(表面分析)
  • 影像/mapping:是
  • 横向分辨率/侦测尺寸:10 µm - 2 mm

优点

  • 表面的化学状态鉴定
  • 鉴定所有元素,H和He除外
  • 定量分析,包括样品之间化学状态的差异
  • 适用于各种材料,包括绝缘样品(纸张、塑料和玻璃)
  • 基材浓度深度分析
  • 氧化物厚度的测量

技术限制

  • 探测限制一般为~ 0.1 at%
  • 最小的分析面积~10 µm
  • 有限的特定有机信息
  • 超高真空环境下的样品兼容性

产业应用

  • 航天工业
  • 汽车
  • 生物医学/生物技术
  • 化合物半导体
  • 资料存储
  • 国防
  • 显示器
  • 电子领域
  • 工业产品
  • 照明设备
  • 制药
  • 光子领域
  • 聚合物
  • 半导体
  • 光电太阳能
  • 电信