成像/投影

在其最简单的形式中,成像分析主要是利用显微镜方法来聚焦表面(包括光学和电子)。分析提供的信息会受到所使用的仪器能力的限制。在此分析类型中主要采用的分析技术是扫描式电子显微镜(SEM)。

成像/映射

元素、无机物或者分子种类的横向分配(例如位置)可以使用以下方法来测量:

  • 电子束技术:SEM,EDS和Auger
  • 离子束技术:TOF-SIMS和FIB

成像/映射

这些方法提供了地图或图像来显示不同种类元素的相对位置,相关的功能,缺陷,颗粒等的有用信息。

也可以使用其他的技术来获得图像:

  • Raman测量分子振动,并且提供有关官能基、碳类型和压力/应力的信息。
  • AFM提供表面粗糙的图像、硬度和磁性成像。
  • XPS提供元素和化学映像。
  • 光学轮廓测定可以产生表面的三维成像,三维测量或特定功能的成像。

在一个规模较大的晶圆映像到300mm,LEXES可以用于映射掺杂、薄膜成分和杂质;XRR/XRF可以用于映像膜的厚度和密度;TXRF可以用于映像元素污染物。

主要分析技术

其他分析技术