HFS(氢正向散射光谱)

氢前向散射光谱测定法HFS(氢正向散射光谱)是一种用于定量薄膜中氢浓度的离子散射分析技术。在分析过程中,He2+离子以掠射角角度撞击样品表面,将样品的氢原子碰撞出后,以固态侦测器进行分析。

由于薄膜物理或者电气属性中氢元素的潜在影响,因此在薄膜中测定氢元素的组成和分布就变得很关键。其他的技术,例如AESEDS以及XPS,都无法侦测氢元素;而SIMS可以测量氢元素,但要定量氢元素是非常困难。这使得HFS在薄膜分析中成为了一项非常独特有用的技术。

很少有实验室能像EAG这样在提供HFS技术方面拥有深度和广泛的经验。EAG的经验使其具有快速分析时间、准确数据以及个人的服务,确保客户能够理解所得到的分析结果。

 

氢前向散射光谱测定法

 

应用范围

  • 薄膜氢元素分析

分析规格

  • 侦测讯号: 正向散射氢原子
  • 侦测元素:1H, 2H
  • 侦测限制条件:0.1at%
  • 深度分辨率:~300Å
  • 影像/mapping:否
  • 横向分辨率/探测尺寸:>=1mm x 5mm

优点

  • 非破坏性氢元素成分测定
  • 全芯片分析(最高到300mm)以及不规则大尺寸样品
  • 导体和绝缘体分析

 

技术限制

  • 需较大的分析面积(1mm x 5mm)
  • 有限的薄膜有用信息 (<0.5μm)
  • 深度分辨率为300Å

 

产业应用

  • 需较大的分析面积(1mm x 5mm)
  • 有限的薄膜有用信息 (<0.5μm)
  • 深度分辨率为300Å
  • 航天工业
  • 国防
  • 显示器
  • 半导体
  • 电信