清洁度

根据要分析的表面与材料特点,使用不同的测量方法去评估表面清洁度。另外,还可能会涉及到对使用不同的处理方式,或是暴露在不同环境的样品比较。使用这种方法通常可以突显出检测样品和控制样品或标准品之间的区别。例如,非常灵敏的测量方法可以发现到因为没有进行适当地冲洗而残留的清洁化学品,灵敏度较低的测定方法则可能会测不到残留物。

评估清洁度一般需要对于污染物的可能来源有一定程度上的理解:

  • 是否有感兴趣的元素或者分子污染物?(嫌疑犯?)
  • 材料存在或不存在的确认?
  • 在意的元素是否必须要低于特定浓度?

测定非常干净的表面可能会要求侦测极限为ppm范围的分析技术,例如全反射X-射线荧光分析(TXRF),只探测元素成分,或者飞行式二次离子质谱(TOF-SIMS),针对元素和分子污染物。通过表面的许多微粒来测定清洁度,对于表面成像和微粒计算来说,扫描式电子显微镜(SEM)是个不错的选择。

主要分析技术

其他分析技术