AFM/SPM(原子力显微镜)

原子力显微镜分析方法

AFM(原子力显微镜),提供原子或近原子分辨率的表面形貌图像,能够定量样品的表面粗糙度到"Å"等级。除了提供表面图像之外,AFM也可以提供形态的定量测量,如高度差和其他尺寸。另外,磁力显微镜(MFM)是AFM一种应用,能够绘制样品的磁域图。

AFM分析方法应用的案例包括:

  • 评估芯片处理前后的差异(SiO2, GaAs, SiGe等)
  • 确定生物医学设备的处理效果(例如电浆处理),如隐形眼镜、导管和涂层支架
  • 检查表面粗糙度对附着力的影响
  • 评估图案晶圆的沟槽形状与清洁度
  • 检查形态是否是表面阴霾的来源

原子力显微镜分析方法

分析范围

  • 提供三维表面形态影像,包括表面粗糙度、粒径大小、高度差和间距
  • 其他样品特性的成像,包括磁场、电容、摩擦力和相位

 

分析规格

  • 侦测讯号: 样品表面形态
  • 垂直分辨率:0.1Å
  • 影像/mapping:是
  • 横向分辨率/Probe 大小: 15-50Å

优点 

  • 可定量表面粗糙度
  • 全晶圆分析(最大300mm)
  • 高空间分辨率
  • 导体或绝缘体皆可成像

技术限制

  • 扫描范围限制:横向100µm (x,y),垂直5µm(z)
  • 对极其粗糙和形状怪异的样品在分析上有困难
  • 探针好坏可能会造成误差

产业应用

  • 航天工业
  • 汽车
  • 生物医学/生物技术
  • 化合物半导体
  • 资料存储
  • 国防
  • 显示器
  • 电子领域
  • 工业产品
  • 照明设备
  • 制药
  • 太阳能
  • 聚合物
  • 半导体
  • 光电行业
  • 电信